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机械自动化

良时正盛取得化学机械抛光垫抛光层及其制备方

日期：2025-12-09 20:05

　　国度学问产权局消息显示，良时正盛（江苏）半导体科技无限公司取得一项名为“一种化学机械抛光的抛光垫的抛光层及其制备方式”的专利，授权通知布告号CN120326520B。

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